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삼성전자, 두번째 EUV 파운드리 생산라인 구축…TSMC 추격 속도 내나

  • Editor. 이세영 기자
  • 입력 2020.05.21 15:06
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[업다운뉴스 이세영 기자] 삼성전자가 EUV(극자외선) 기반 최첨단 제품 수요 증가에 대응하기 위해 경기도 평택캠퍼스에 두 번째 파운드리(반도체 위탁생산) 라인을 구축한다. 이에 세계 1위 도약에 속도를 높일지 주목된다.

삼성전자는 올해 2월 EUV 전용 화성 'V1 라인' 가동에 이어 평택까지 파운드리 라인을 구축하며 모바일, HPC(High Performance Computing), 인공지능(AI) 등 다양한 분야로 초미세 공정 기술 적용 범위를 확대해 나가고 있다고 21일 밝혔다.

이번 투자는 삼성전자가 작년 4월 발표한 '반도체 비전 2030' 관련 후속 조치의 일환으로, 반도체 비전 2030에는 133조원을 투자해 2030년까지 시스템 반도체 1위를 달성하겠다는 내용이 담겼다.

삼성전자 평택캠퍼스 항공 사진. [사진=삼성전자 제공]

삼성전자는 이달 평택 파운드리 라인 공사에 착수했으며, 2021년 하반기부터 본격 가동할 계획이다.

삼성전자는 2019년 화성 S3 라인에서 업계 최초로 EUV 기반 7나노 양산을 시작한 이후, 2020년 V1 라인을 통해 초미세 공정 생산 규모를 지속 확대해 왔다. 여기에 2021년 평택 라인이 가동되면 7나노 이하 초미세 공정 기반 제품의 생산 규모는 더욱 가파르게 증가할 전망이다.

또한 삼성전자는 생산성을 더욱 극대화한 5나노 제품을 올해 하반기에 화성에서 먼저 양산한 뒤, 평택 파운드리 라인에서도 주력 생산할 예정이다.

업계에서는 삼성전자가 세계 1위 파운드리 기업인 대만 TSMC 따라붙는 데 가속이 붙을 것이라는 관측이 나온다. 현재 7나노 이하 초미세 공정 기술을 보유하고 있는 파운드리 기업은 사실상 삼성전자와 대만 TSMC가 유일하다. TSMC가 세계 파운드리 시장에서 50%대의 점유율을 차지하는 반면, 삼성전자는 10% 후반대 점유율을 기록 중이다.

TSMC는 2나노 공정을 개발 중이라고 밝혔고, 올해 5나노 공정 생산에 돌입할 계획이다. 삼성전자는 지난해 4월 업계 최초로 EUV 공정을 적용한 7나노 제품을 출하했고 작년 하반기 6나노 제품 양산에 들어갔다. 5나노 제품도 올해 하반기 중 화성에서 먼저 양산될 것으로 보이며, 3나노 제품은 2022년을 양산 시점으로 잡고 있다.

업계에서는 삼성과 TSMC의 5나노 공정 양산 시점이 같은 만큼, 올해를 고객사 확보의 기회로 보기도 한다.

정은승 삼성전자 DS부문 파운드리사업부 사장은 "5나노 이하 공정 제품의 생산 규모를 확대해 EUV 기반 초미세 시장 수요 증가에 적극 대응해 나갈 것"이라며 "전략적 투자와 지속적인 인력 채용을 통해 파운드리 사업의 탄탄한 성장을 이어나갈 것"이라고 밝혔다.

글로벌 파운드리 시장은 5G·HPC·AI·네트워크 등 신규 응용처 확산에 따라 초미세 공정 중심의 성장이 예상되며, 삼성전자는 프리미엄 모바일 칩을 필두로 하이엔드 모바일 및 신규 응용처로 첨단 EUV 공정 적용을 확대해 나간다는 전략이다.

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